トップページ > 製品サービス案内 > 受託開発サービス > 【開発事例: ナノ】 薄膜成長プロセスシミュレータの開発

【開発事例: ナノ】 薄膜成長プロセスシミュレータの開発

薄膜成長プロセスシミュレータ

概要

ガラス基盤などの明確な結晶構造を持たない基盤上での薄膜成長過程のナノスケールでのシミュレーション用ソフトウェア

基本となっているソフトウェア

Advance/TFLAGS

特徴

  • MBE、CVD、スパッタ法などによる薄膜成長過程のシミュレーションが可能
  • エピタキシャル成長、ガラス基板等の非晶質構造をもつ基板上における、多結晶膜の成長過程に対応
  • 薄膜成長過程のシミュレーションが可能
  • ガラス基板等の非晶質構造をもつ基板上における、多結晶膜の成長過程に対応
  • 多元系の成長過程の取り扱いが可能
  • 各結晶粒ごとに膜厚分布の偏差を計算し、さらにその時間変化を調べることで、元素の供給率や基板温度などの成長条件と表面の粗さとの関係を、統計的に解析することが可能
  • KMC法に基づくナノスケールのシミュレーション
  • 金属表面上における金属元素の拡散に特有な、エッジ拡散の効果と、Ehrlich-Schwoebel 障壁の効果を導入
  • 基板上を自由拡散する同種の原子2個が衝突した場所を基点に、3次元 格子がダイナミカルに 生成されるように、オブジェクト指向言語C++を使ってコードを作成
  • 消費メモリーが100MB以下の軽いプログラムで、PCでも動作可能
ガラス基板上に形成された、1種類の金属原子からなる多結晶構造
ガラス基板上に形成された、1種類の金属原子からなる多結晶構造

動作環境

  • OS:Windows、 Linux、 MacOS X、UNIX
  • CPU:動作周波数1GHz以上推奨
  • メモリー:DDR-SDRAM 256MB以上推奨

お問い合わせページへ